中華民國第二十屆國際版畫雙年展
活動訊息
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內容簡介
本展自1983年開始辦理第一屆以來，迄今辦理至第20屆。本屆共有來自全球79國1011位藝術家報名參賽，經過初審評審團審慎的挑選，遴選出180件入選以上得獎作品。藉由創作者對自身文化的轉譯與詮釋，呈現給觀眾銘刻不同文化脈絡下的多元視野與豐沛的創作能量。
目錄
004 館長序
006 諮詢委員
007 評審團
010 初審感言
014 複審感言
019 得獎作品
051 入選作品
201 藝術家索引
006 諮詢委員
007 評審團
010 初審感言
014 複審感言
019 得獎作品
051 入選作品
201 藝術家索引
序／導讀
序言
「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」由文化部指導，國立臺灣美術館主辦，歷經 40 年間不懈耕耘，宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展，是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一，迄今已是第 20 屆。
本屆籌備期間遭逢全球共同面對 COVID-19 疫情的衝擊，故而開啟了嶄新的趨勢與變革，諸如首次採取線上初審審查、入圍作品的運費由主辦單位負擔等，在突破疫情影響的轉圜方案下，也有利提升參賽者的參與便利性及順應國際趨勢，開展新的篇章。
本屆共收到 79 國 1011 件作品報名參，歷經初審評審團選出 187 件入圍作品；再交由複審評審團，由實際到館的入圍作品當中，選出 50 國 180 件展出作品，其中亦包含金牌獎、銀牌獎、銅牌獎、評審團特別獎 2 名、優選獎 5 名、佳作 5 名等 15 件得獎作品，將於今年 8 月至 11 月於國立臺灣美術館展出。
評審委員們皆對本屆參賽作品的數量眾多、質量優異、風格多樣、技法精煉創新等表示高度肯定；而對疫情影響的反思與關注，也成為契合時代氛圍的創作議題，綜觀本屆作品的色調及主題，彷彿也是創作者在呼應疫情時代恐慌心境下的借鑒交融，凝鍊昇華出沉穩、安定的創作量能之撫慰式傳達。
本屆得獎者，除了臺灣的藝術家外，亦有來自日本、中國等亞洲國家者；來自法國、烏克蘭、英國、波蘭、德國、西班牙等歐洲國家者；以及來自哥倫比亞、古巴等中南美洲國家者，精彩呈現不同文化底蘊下，多元的觀點演繹與藝術語彙傳達。此外，本屆得獎者中，不乏 20 多歲年輕的藝術家，銘刻新世代創作者的創作脈絡；有趣的是，兩位不約而同地關注了衰敗、時間荏苒流逝的主題，詮釋廢墟美學視角下的辯證。
本屆展出作品趨向大尺幅，顯示創作者在主辦單位規定的範圍內盡情發揮至極致的野心，而創作技法涵蓋傳統技法的凸版、凹版、平版、孔版，亦有部份採取數位版及併用版等時代潮流產物下的創新技法，皆可一窺版畫藝術創作的蓬勃動能及在傳承流變下的豐富樣貌。而作品創作議題涵蓋自我內心世界的深度探索與關照；或對所處時空的叩問與探詢；或純粹淬鍊於形式上的形象美學，那些多元並蓄的洞察或辯證姿態，皆在創作美學的轉譯下，重塑為美學維度下的光影與色彩。
最後，感謝本屆諮詢委員及初審評審團、複審評審團，每位委員挹注的辛勞。其中包括：劉錫權、薛保瑕、呂燕卿、楊明迭、萊絲莉•杜斯貝瑞(Lesley Duxbury)、倪朝龍、謝里法、羅平和、徐文瑞、張家瑀、陳曉朋、高實珩。也衷心感謝來自世界各地參賽者對本展的支持及參與，以及對所有得獎藝術家表示祝賀。期許未來，本展能持續耕耘版畫藝術交流與對話的平臺之角色，共同見證與豐富版畫創作領域的多元樣貌。
「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」由文化部指導，國立臺灣美術館主辦，歷經 40 年間不懈耕耘，宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展，是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一，迄今已是第 20 屆。
本屆籌備期間遭逢全球共同面對 COVID-19 疫情的衝擊，故而開啟了嶄新的趨勢與變革，諸如首次採取線上初審審查、入圍作品的運費由主辦單位負擔等，在突破疫情影響的轉圜方案下，也有利提升參賽者的參與便利性及順應國際趨勢，開展新的篇章。
本屆共收到 79 國 1011 件作品報名參，歷經初審評審團選出 187 件入圍作品；再交由複審評審團，由實際到館的入圍作品當中，選出 50 國 180 件展出作品，其中亦包含金牌獎、銀牌獎、銅牌獎、評審團特別獎 2 名、優選獎 5 名、佳作 5 名等 15 件得獎作品，將於今年 8 月至 11 月於國立臺灣美術館展出。
評審委員們皆對本屆參賽作品的數量眾多、質量優異、風格多樣、技法精煉創新等表示高度肯定；而對疫情影響的反思與關注，也成為契合時代氛圍的創作議題，綜觀本屆作品的色調及主題，彷彿也是創作者在呼應疫情時代恐慌心境下的借鑒交融，凝鍊昇華出沉穩、安定的創作量能之撫慰式傳達。
本屆得獎者，除了臺灣的藝術家外，亦有來自日本、中國等亞洲國家者；來自法國、烏克蘭、英國、波蘭、德國、西班牙等歐洲國家者；以及來自哥倫比亞、古巴等中南美洲國家者，精彩呈現不同文化底蘊下，多元的觀點演繹與藝術語彙傳達。此外，本屆得獎者中，不乏 20 多歲年輕的藝術家，銘刻新世代創作者的創作脈絡；有趣的是，兩位不約而同地關注了衰敗、時間荏苒流逝的主題，詮釋廢墟美學視角下的辯證。
本屆展出作品趨向大尺幅，顯示創作者在主辦單位規定的範圍內盡情發揮至極致的野心，而創作技法涵蓋傳統技法的凸版、凹版、平版、孔版，亦有部份採取數位版及併用版等時代潮流產物下的創新技法，皆可一窺版畫藝術創作的蓬勃動能及在傳承流變下的豐富樣貌。而作品創作議題涵蓋自我內心世界的深度探索與關照；或對所處時空的叩問與探詢；或純粹淬鍊於形式上的形象美學，那些多元並蓄的洞察或辯證姿態，皆在創作美學的轉譯下，重塑為美學維度下的光影與色彩。
最後，感謝本屆諮詢委員及初審評審團、複審評審團，每位委員挹注的辛勞。其中包括：劉錫權、薛保瑕、呂燕卿、楊明迭、萊絲莉•杜斯貝瑞(Lesley Duxbury)、倪朝龍、謝里法、羅平和、徐文瑞、張家瑀、陳曉朋、高實珩。也衷心感謝來自世界各地參賽者對本展的支持及參與，以及對所有得獎藝術家表示祝賀。期許未來，本展能持續耕耘版畫藝術交流與對話的平臺之角色，共同見證與豐富版畫創作領域的多元樣貌。
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