半導體製程設備技術(第4版)
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內容簡介
半導體(Semiconductor)是介於導體(Conductor)與絕緣體(Insulator)之間的材料。我們可以輕易的藉由摻質(Dopant)的摻雜(Doping)去提高導電度(Conductivity)。其中二六族及三五族是為化合物半導體(Compound Semiconductor)材料，大部分是應用於光電領域，如發光二極體(Light Emitting Diode, LED)、太陽能電池(Solar cell)等。而目前的積體電路(Integrated Circuit, IC)領域，主要還是以第四族的矽(Si)為主的元素半導體，也就是目前的矽晶圓(Silicon Wafer)基底材料(Substrate) 。
在未來的日子，我們可預見晶圓廠裡將有可能全面改為自動化的運作，到那時將不再需要大量的操作人員。而主要的人力將會是工程師(含)以上的職務，所以希望能以此書與各位以及想轉職的朋友們提供一個分享，讓大家都能對於常見的機台設備及其製程技術，有一個全觀的認識，以提升職場的競爭力。
在未來的日子，我們可預見晶圓廠裡將有可能全面改為自動化的運作，到那時將不再需要大量的操作人員。而主要的人力將會是工程師(含)以上的職務，所以希望能以此書與各位以及想轉職的朋友們提供一個分享，讓大家都能對於常見的機台設備及其製程技術，有一個全觀的認識，以提升職場的競爭力。
目錄
序
致謝
第0章 設備維修需具備的知識技能以及半導體導論篇
0.1 設備維修該有的認知及態度
0.2 設備安全標示的認識
0.2.1 設備安全標示的認識
0.2.2 個人防護裝備的認識
0.3 設備機電系統的定義及分類
類比控制系統
數位控制系統
0.4 設備控制系統
0.5 常見電路圖圖示認識
0.6 半導體導論
參考文獻
第一章 擴散設備（Diffusion）篇
1.1 爐管（Furnace）
1.1.1 爐管設備系統架構
1.1.2 爐管製程介紹
1.1.3 製程程序步驟（Recipe）介紹
1.1.4 經驗分享
1.2 離子植入（Ion Implant）
1.2.1 離子植入製程基礎原理
1.2.2 離子植入機設備系統簡介
1.2.3 離子植入製程在積體電路製程的簡介
1.2.4 離子植入製程後的監控與量測
1.2.5 離子植入機操作注意事項
1.2.6 離子植入製程問題討論與分析
參考文獻
第二章 濕式蝕刻與清潔設備（Wet Bench）篇
2.1 濕式清洗與蝕刻的目的及方法
2.1.1 濕式清洗的目的
2.1.2 濕式蝕刻的目的
2.1.3 污染物對半導體元件電性的影響
2.2 晶圓表面清潔與蝕刻技術
2.2.1 晶圓表面有機汙染（Organic Contamination）洗淨
2.2.2 晶圓表面原生氧化層的移除
2.2.3 晶圓表面洗淨清潔技術
2.2.4 晶圓表面濕式蝕刻技術
2.3 化學品供應系統
2.3.1 化學品分類
2.3.2 化學品供應系統
2.4 Wet Bench結構與循環系統
2.4.1 濕式蝕刻及清潔設備（Wet Bench）結構
2.4.2 濕式蝕刻及清洗設備（Wet Bench）傳動系統
2.4.3 循環系統與乾燥系統
參考文獻 133
第三章 薄膜設備（Thin Films）篇
3.1 電漿（Plasma）
3.1.1 電漿產生的原理
3.1.2 射頻電漿電源（RF Generator）的功率量測儀器
3.2 化學氣相沉積設備系統（Chemical Vapor Deposition, CVD）
3.2.0 簡介
3.2.1 電漿輔助化學氣相沉積（PECVD）
3.2.2 新穎化學氣相沉積系統與磊晶系統（ALD、MBE、MOCVD）
3.3 物理氣相沉積設備系統（Physical Vapor Deposition, PVD）
3.3.1 熱蒸鍍
3.3.2 電子束蒸鍍
3.3.3 濺鍍
參考文獻
第四章 乾式蝕刻設備（Dry Etcher）篇
4.0 前言
4.0.1 乾式蝕刻機（Dry Etcher）
4.0.2 蝕刻腔體設計概念（Design Factors）
4.1 各種乾式蝕刻腔體設備介紹
4.1.1 反應式離子蝕刻機（Reactive Ion Etcher, RIE）
4.1.2 三極式電容偶合蝕刻系統（Triode RIE）
4.1.3 磁場增進式平行板電極（Magnetically Enhance RIE, MERIE）
4.1.4 高密度電漿蝕刻腔體（High Density Plasma Reactors）
4.1.5 多極式磁場侷限式電漿（Magnetic Multipole Confinement, MMC）
4.1.6 電感應偶合電漿（Inductive Couple Plasma, ICP）
4.1.7 電子迴旋共振式電漿（Electron Cyclotron Resonance, ECR）
4.1.8 螺旋微波電漿源（Helicon Wave Plasma Source, HWP）
4.2 晶圓固定與控溫設備
4.3 終點偵測裝置（End Point Detectors）
4.4 乾式蝕刻製程（Dry Etching Processes）
4.4.1 乾式蝕刻與濕式蝕刻的比較
4.4.2 乾式蝕刻機制
4.4.3 活性離子蝕刻的微觀現象
4.4.4 各式製程蝕刻說明
4.5 總結
參考文獻
第五章 黃光微影設備（Photolithography）篇
5.1 前言
5.2 光阻塗佈及顯影系統（Track system : Coater / Developer）
5.2.1 光阻塗佈系統（Coater）
5.2.2 顯影系統（Developer）
5.3 曝光系統（Exposure System）
5.3.1 光學微影（Optical Lithography）
5.3.2 電子束微影（E-beam Lithography）
5.4 現在與未來
5.4.1 浸潤式微影（Immersion Lithography）
5.4.2 極紫外光微影（Extreme Ultraviolet Lithography）
5.4.3 多電子束微影（Multi-Beam Lithography）
5.5 工作安全提醒
參考文獻
第六章 研磨設備（Polishing）篇
6.1 前言
6.2 化學機械研磨系統（Chemical Mechanical Polishing, CMP）
6.2.1 研磨頭
6.2.2 研磨平臺
6.2.3 研磨漿料控制系統
6.2.4 清洗／其他
6.3 研磨漿料（Slurry）
6.4 化學機械研磨製程中常見的現象
6.5 化學機械研磨常用的化學品
參考文獻
第七章 IC製造概述篇
7.1 互補式金氧半電晶體製造流程（CMOS Process Flow）
前段製程（FEOL）
後段製程（BEOL）
7.2 CMOS閘極氧化層陷阱電荷介紹
四種基本及重要的電荷
高頻的電容對電壓特性曲線（C-V curve）
7.3 鰭式電晶體元件製造流程（FinFET Device Process Flow）
PMOS鰭式場效應電晶體（PMOS bulk FinFET）製造流程
7.4 碳化矽高功率元件（SiC Power Device）—接面位障蕭特基二極體（Junction Barrier Schottky Diode, JBSD）製造流程
7.5 氮化鎵功率元件製造流程（GaN-on-Si HEMT Power device Process Flow）
參考文獻
第八章 控制元件檢測及維修篇
8.1 簡介
8.2 維修工具的使用
8.2.1 一般性維修工具組
8.2.2 三用電表的使用
8.2.3 示波器（Oscilloscope）的使用
8.2.4 數位邏輯筆的使用
8.3 設備機台常見的控制元件與儀表控制器
8.3.1 電源供應器（Power Supply）
8.3.2 溫度控制器（Temperature Controller）
8.3.3 伺服與步進馬達（Servo and Stepping Motor）
8.3.4 質流控制器（Mass Flow Controller, MFC）
8.3.5 電磁閥（Solenoid Valve）
8.3.6 感測器（Sensor）
8.3.7 可程式邏輯控制器（PLC）
參考文獻
索引
致謝
第0章 設備維修需具備的知識技能以及半導體導論篇
0.1 設備維修該有的認知及態度
0.2 設備安全標示的認識
0.2.1 設備安全標示的認識
0.2.2 個人防護裝備的認識
0.3 設備機電系統的定義及分類
類比控制系統
數位控制系統
0.4 設備控制系統
0.5 常見電路圖圖示認識
0.6 半導體導論
參考文獻
第一章 擴散設備（Diffusion）篇
1.1 爐管（Furnace）
1.1.1 爐管設備系統架構
1.1.2 爐管製程介紹
1.1.3 製程程序步驟（Recipe）介紹
1.1.4 經驗分享
1.2 離子植入（Ion Implant）
1.2.1 離子植入製程基礎原理
1.2.2 離子植入機設備系統簡介
1.2.3 離子植入製程在積體電路製程的簡介
1.2.4 離子植入製程後的監控與量測
1.2.5 離子植入機操作注意事項
1.2.6 離子植入製程問題討論與分析
參考文獻
第二章 濕式蝕刻與清潔設備（Wet Bench）篇
2.1 濕式清洗與蝕刻的目的及方法
2.1.1 濕式清洗的目的
2.1.2 濕式蝕刻的目的
2.1.3 污染物對半導體元件電性的影響
2.2 晶圓表面清潔與蝕刻技術
2.2.1 晶圓表面有機汙染（Organic Contamination）洗淨
2.2.2 晶圓表面原生氧化層的移除
2.2.3 晶圓表面洗淨清潔技術
2.2.4 晶圓表面濕式蝕刻技術
2.3 化學品供應系統
2.3.1 化學品分類
2.3.2 化學品供應系統
2.4 Wet Bench結構與循環系統
2.4.1 濕式蝕刻及清潔設備（Wet Bench）結構
2.4.2 濕式蝕刻及清洗設備（Wet Bench）傳動系統
2.4.3 循環系統與乾燥系統
參考文獻 133
第三章 薄膜設備（Thin Films）篇
3.1 電漿（Plasma）
3.1.1 電漿產生的原理
3.1.2 射頻電漿電源（RF Generator）的功率量測儀器
3.2 化學氣相沉積設備系統（Chemical Vapor Deposition, CVD）
3.2.0 簡介
3.2.1 電漿輔助化學氣相沉積（PECVD）
3.2.2 新穎化學氣相沉積系統與磊晶系統（ALD、MBE、MOCVD）
3.3 物理氣相沉積設備系統（Physical Vapor Deposition, PVD）
3.3.1 熱蒸鍍
3.3.2 電子束蒸鍍
3.3.3 濺鍍
參考文獻
第四章 乾式蝕刻設備（Dry Etcher）篇
4.0 前言
4.0.1 乾式蝕刻機（Dry Etcher）
4.0.2 蝕刻腔體設計概念（Design Factors）
4.1 各種乾式蝕刻腔體設備介紹
4.1.1 反應式離子蝕刻機（Reactive Ion Etcher, RIE）
4.1.2 三極式電容偶合蝕刻系統（Triode RIE）
4.1.3 磁場增進式平行板電極（Magnetically Enhance RIE, MERIE）
4.1.4 高密度電漿蝕刻腔體（High Density Plasma Reactors）
4.1.5 多極式磁場侷限式電漿（Magnetic Multipole Confinement, MMC）
4.1.6 電感應偶合電漿（Inductive Couple Plasma, ICP）
4.1.7 電子迴旋共振式電漿（Electron Cyclotron Resonance, ECR）
4.1.8 螺旋微波電漿源（Helicon Wave Plasma Source, HWP）
4.2 晶圓固定與控溫設備
4.3 終點偵測裝置（End Point Detectors）
4.4 乾式蝕刻製程（Dry Etching Processes）
4.4.1 乾式蝕刻與濕式蝕刻的比較
4.4.2 乾式蝕刻機制
4.4.3 活性離子蝕刻的微觀現象
4.4.4 各式製程蝕刻說明
4.5 總結
參考文獻
第五章 黃光微影設備（Photolithography）篇
5.1 前言
5.2 光阻塗佈及顯影系統（Track system : Coater / Developer）
5.2.1 光阻塗佈系統（Coater）
5.2.2 顯影系統（Developer）
5.3 曝光系統（Exposure System）
5.3.1 光學微影（Optical Lithography）
5.3.2 電子束微影（E-beam Lithography）
5.4 現在與未來
5.4.1 浸潤式微影（Immersion Lithography）
5.4.2 極紫外光微影（Extreme Ultraviolet Lithography）
5.4.3 多電子束微影（Multi-Beam Lithography）
5.5 工作安全提醒
參考文獻
第六章 研磨設備（Polishing）篇
6.1 前言
6.2 化學機械研磨系統（Chemical Mechanical Polishing, CMP）
6.2.1 研磨頭
6.2.2 研磨平臺
6.2.3 研磨漿料控制系統
6.2.4 清洗／其他
6.3 研磨漿料（Slurry）
6.4 化學機械研磨製程中常見的現象
6.5 化學機械研磨常用的化學品
參考文獻
第七章 IC製造概述篇
7.1 互補式金氧半電晶體製造流程（CMOS Process Flow）
前段製程（FEOL）
後段製程（BEOL）
7.2 CMOS閘極氧化層陷阱電荷介紹
四種基本及重要的電荷
高頻的電容對電壓特性曲線（C-V curve）
7.3 鰭式電晶體元件製造流程（FinFET Device Process Flow）
PMOS鰭式場效應電晶體（PMOS bulk FinFET）製造流程
7.4 碳化矽高功率元件（SiC Power Device）—接面位障蕭特基二極體（Junction Barrier Schottky Diode, JBSD）製造流程
7.5 氮化鎵功率元件製造流程（GaN-on-Si HEMT Power device Process Flow）
參考文獻
第八章 控制元件檢測及維修篇
8.1 簡介
8.2 維修工具的使用
8.2.1 一般性維修工具組
8.2.2 三用電表的使用
8.2.3 示波器（Oscilloscope）的使用
8.2.4 數位邏輯筆的使用
8.3 設備機台常見的控制元件與儀表控制器
8.3.1 電源供應器（Power Supply）
8.3.2 溫度控制器（Temperature Controller）
8.3.3 伺服與步進馬達（Servo and Stepping Motor）
8.3.4 質流控制器（Mass Flow Controller, MFC）
8.3.5 電磁閥（Solenoid Valve）
8.3.6 感測器（Sensor）
8.3.7 可程式邏輯控制器（PLC）
參考文獻
索引
序／導讀
因緣際會進入高齡學環境研究
民國74年去美國賓夕法尼亞大學（University of Pennsylvania，簡稱賓大）建築研究所進修時，當年賓大建築研究所以設計教學聞名，廣邀世界各國建築大師來開設設計studio，完成4學期的設計studio及修完選修學分即可取得碩士學位，不需要撰寫論文。當時我也選了世界普立茲克建築獎（Pritzker Architecture Prize，被喻為建築的諾貝爾獎）得主德國建築大師哥特弗里德‧波姆（Gottfried Böhm）的設計studio，希望將來能成為一位優秀的建築設計者。1986年波姆得獎後，他早年在海外第一個建築作品「臺南後壁鄉菁寮天主教堂」一度成為臺灣各界朝聖的景點，回到臺灣後我被邀請講解波姆的作品，並帶領建築相關業界去德國參訪波姆的設計作品。
然而當年我也因緣際會認識了設計學院一位環境行為學著名大師（Creating architectural theory: The role of the behavioral sciences in environmental design作者），同時以獨立研究（independent study）的方式在這位老師指導下，採用系統性文獻回顧方法進行「住宅居住環境行為研究」而完成論文。環境行為學或環境心理學是建築學的冷門領域，研究對象以弱勢族群（高齡者、身心障礙者⋯⋯ ）為主，因為此類對象的特性與生活行為，往往不是一般設計者所能自身體驗及了解，唯有深度研究才能有效建立知識與資訊而提供環境設計者應用，從此開啟自我期許將來能用自身的專業來協助弱勢族群，這個核心價值讓自己在臺灣走上了一條建築界孤獨的道路。回首來時路，願景雖然可以期待，然而願景的實現需要因緣際會。
廣泛了解各國高齡者生活與照顧環境發展
民國76年回到臺灣時，在當時的內政部營建署張隆盛署長（賓大學長）邀約下參與籌設內政部建築研究所（由營建署成立籌備小組）。隨後展開了籌設研究計畫，並在76-78年籌備小組進行世界各國國家級建築研究所的參訪考察工作，在這期間有幸承蒙各國建築研究所的協助（尤其是英國和日本），促成臺灣加入國際建築研究聯盟（CIB）。籌備小組在民國79 年改制為籌備處，每年編列預算提供同仁前往國外進行專業研究考察，透過國際建築研究聯盟成員和臺灣駐各國代表處的協助，80-86 年我多次參訪北歐（瑞典、芬蘭、丹麥）、中歐（英國、德國、瑞士、荷蘭）和日本等國之高齡者生活與照顧環境案例（其中曾多次參訪瑞典和日本），也開啟了我在高齡學環境研究的起點。後來任教國立雲林科技大學時，進行國科會專題研究補助計畫期間，承蒙國科會的鼓勵及全額補助，參與國際研討會發表研究成果，93-100 年連續8年參加美國環境設計研究學會（Environmental Design Research Association，簡稱EDRA）年會之國際研討會發表論文（口頭發表），能同時了解各國高齡學環境研究發展狀況，並且每年在大會的安排或國際建築研究聯盟成員的協助，參訪美國多州的高齡者生活與照顧環境案例，包含持續性照顧退休社區（Continuing Care Retirement Community，簡稱CCRC）、社區照顧住宅（Residential Care Facilities，簡稱RCF）。近年來則承蒙澳洲南威爾斯大學Bruce Judd 教授邀約合寫「在地老化規劃設計策略」（由英國圖書公司出版），而有機會熟悉澳洲高齡者照顧環境發展與案例。35 年來在各種因緣際會下，陸續了解各先進國家之高齡者生活與照顧環境特性。
見證及參與推動臺灣高齡者生活與照顧環境發展
民國65-75 年期間臺灣大量設置財團法人老人安養機構提供健康高齡者居住，內政部社會司在79 年委託進行「老人安養機構規劃設計基準研究」，開
啟我在高齡學環境相關政策研究的起點。隨著社會結構的變化，臺灣由民國81 年進入高齡化社會，歷經高齡社會到如今的超高齡社會，在社會福利和衛
生醫療雙軌並行的體系下，對於高齡者的生活與照顧服務政策參與及進行環境研究，我見證了臺灣高齡者生活與照顧服務的發展歷程。
民國85 年小型老人福利機構服務人數由30（含）床以下提高至49（含）床以下，認同擴大機構服務規模而鼓勵社區設置小型失能老人養護機構，以期發揮社區照顧住宅之功能。85-86 年協助內政部社會司進行各縣市無障礙環境現況調查，在86 年《殘障福利法》修訂為《身心障礙者保護法》時，極力倡建立和民間第一個長照團體「臺灣長期照護專業協會」長期跨領域跨專業合作的起點。86-87 年協助衛生署在省立澎湖醫院、雲林醫院、苗栗醫院、臺北醫院改造舊有院舍為護理之家示範點，並在87 年由臺灣省政府衛生處邀集各省立醫院參加研習會，運用4 堂課重點說明改造護理之家之相關規劃設計議題，促進公立醫院開始推動長照環境。87-89 年協助衛生署專案審查200 床以上護理之家籌設案之建築規劃設計，以維護大規模之長照機構符合照護環境品質。
民國87-90 年參與衛生署第一、二、三屆長照諮詢委員會期間，衛生署在88 年推動失智症照護第一期三年計畫，委託進行「失智者照護環境設施現況與問題調查研究」、「失智者照護機構建築計畫與設計指引研究」，並於92年協助衛生署在三軍總醫院利用舊有院舍建立衛生醫療體系第一個失智症照
護示範專區。101 年因應衛生福利部即將成立，衛生署研擬整合性評鑑指標系統，適用於一般護理之家、精神護理之家、老人福利機構（養護型機構、長照型機構）、退輔會榮民之家，受邀負責研擬環境設施評鑑指標。102 年新營醫院北門分院護理之家火災造成重大傷亡，倡議護理之家評鑑指標比照先進國家增訂雙向水平避難逃生系統與等待救援空間，以保障無法自主逃生之失能、失智者生命安全。
立法院法制局請託撰寫提案由立法委員聯署，在民國105 年通過修正《都市計畫法》第42、46 條而規定每一鄰里社區有社會福利設施之公共設施，為
臺灣建置「社區照顧住宅」奠定法源基礎。106 年建議衛生福利部針對148 個鄉鎮缺乏社區照顧住宅者，展開「獎助布建住宿式長照機構資源計畫」，並於107-108 年擔任申請獎助計畫之建築設計方案審查委員，期待符合社區照顧住宅特性，以落實高齡者在原居社區「在地老化」之目標。106-108 年臺北市政府針對北投國小預定地轉型發展持續性照顧高齡者生活園區，多次協助衛生局審查開發及規劃可行性評估，期望臺灣能成功發展第一個持續性照顧的高齡者生活園區（CCRC）之示範區。
寫一本符合高齡者老年歷程居住安排的書
高齡者在老年由健康、亞健康、失能、失智以至臨終安寧，在不同階段所需要的生活與照顧服務將涉及醫療、護理、社工、休閒運動、物理治療、職能治療、營養、藥事、環境設計、公共衛生等不同專業領域，環境設計應能結合各服務系統而讓服務發揮最大效能，因此促使環境成為「支持性環境」是環境設計的基本原則；國際上也認同環境設計可以如同醫療介入措施而實證設計介入前和介入後之效益而成為「療癒性環境」，然而不論是支持性環境或是療癒性環境，高齡者生活與照顧之環境設計需跨領域跨專業合作是必要趨勢。
35年的高齡學環境研究歷程，在照護政策討論、機構設置標準修訂、機構評鑑指標研擬、照顧服務單位籌建計畫審查、研究計畫進行（包含國科會的基礎研究、政府部門或民間團體委託的規劃設計研究），一路走來承蒙跨領域跨專業合作的機制，讓自己能廣泛涉獵各相關領域的專業知識與資訊，而更堅信高齡者生活與照顧環境設計和一般建築設計訴求創意或美學之核心價值大不相同，如同序文一開始提及賓大指導老師（國際著名環境行為學大師）所言，弱勢族群的特性與生活行為，往往不是一般環境設計者所能自身體驗及了解。
如何避免高齡者在老年歷程因為不同階段的生活與照顧環境需求而穿梭於不同的服務體系，不斷地重新適應新環境而產生無助與挫折感，導致孤獨與憂鬱而身心狀況快速衰退。顯然提供持續性的照顧與適當的居住安排，讓高齡者可以在熟悉的情境終老一生是成功老化的關鍵因素，世界各國面對高齡社會都積極發展各類可以在地老化的終生住宅形式。一本由研究者廣泛了解各國發展狀況以及見證臺灣發展歷程，而能縱向分析高齡者各階段生活與照顧環境特性，也可以橫向討論比較各類在地老化之終生住宅發展形式，廣泛涵蓋高齡者生活與照顧環境各類議題的書，這將是一本高齡者、家屬和高齡者福利、長期照顧、環境設計、公共衛生等相關各界都可充分應用的書。
民國74年去美國賓夕法尼亞大學（University of Pennsylvania，簡稱賓大）建築研究所進修時，當年賓大建築研究所以設計教學聞名，廣邀世界各國建築大師來開設設計studio，完成4學期的設計studio及修完選修學分即可取得碩士學位，不需要撰寫論文。當時我也選了世界普立茲克建築獎（Pritzker Architecture Prize，被喻為建築的諾貝爾獎）得主德國建築大師哥特弗里德‧波姆（Gottfried Böhm）的設計studio，希望將來能成為一位優秀的建築設計者。1986年波姆得獎後，他早年在海外第一個建築作品「臺南後壁鄉菁寮天主教堂」一度成為臺灣各界朝聖的景點，回到臺灣後我被邀請講解波姆的作品，並帶領建築相關業界去德國參訪波姆的設計作品。
然而當年我也因緣際會認識了設計學院一位環境行為學著名大師（Creating architectural theory: The role of the behavioral sciences in environmental design作者），同時以獨立研究（independent study）的方式在這位老師指導下，採用系統性文獻回顧方法進行「住宅居住環境行為研究」而完成論文。環境行為學或環境心理學是建築學的冷門領域，研究對象以弱勢族群（高齡者、身心障礙者⋯⋯ ）為主，因為此類對象的特性與生活行為，往往不是一般設計者所能自身體驗及了解，唯有深度研究才能有效建立知識與資訊而提供環境設計者應用，從此開啟自我期許將來能用自身的專業來協助弱勢族群，這個核心價值讓自己在臺灣走上了一條建築界孤獨的道路。回首來時路，願景雖然可以期待，然而願景的實現需要因緣際會。
廣泛了解各國高齡者生活與照顧環境發展
民國76年回到臺灣時，在當時的內政部營建署張隆盛署長（賓大學長）邀約下參與籌設內政部建築研究所（由營建署成立籌備小組）。隨後展開了籌設研究計畫，並在76-78年籌備小組進行世界各國國家級建築研究所的參訪考察工作，在這期間有幸承蒙各國建築研究所的協助（尤其是英國和日本），促成臺灣加入國際建築研究聯盟（CIB）。籌備小組在民國79 年改制為籌備處，每年編列預算提供同仁前往國外進行專業研究考察，透過國際建築研究聯盟成員和臺灣駐各國代表處的協助，80-86 年我多次參訪北歐（瑞典、芬蘭、丹麥）、中歐（英國、德國、瑞士、荷蘭）和日本等國之高齡者生活與照顧環境案例（其中曾多次參訪瑞典和日本），也開啟了我在高齡學環境研究的起點。後來任教國立雲林科技大學時，進行國科會專題研究補助計畫期間，承蒙國科會的鼓勵及全額補助，參與國際研討會發表研究成果，93-100 年連續8年參加美國環境設計研究學會（Environmental Design Research Association，簡稱EDRA）年會之國際研討會發表論文（口頭發表），能同時了解各國高齡學環境研究發展狀況，並且每年在大會的安排或國際建築研究聯盟成員的協助，參訪美國多州的高齡者生活與照顧環境案例，包含持續性照顧退休社區（Continuing Care Retirement Community，簡稱CCRC）、社區照顧住宅（Residential Care Facilities，簡稱RCF）。近年來則承蒙澳洲南威爾斯大學Bruce Judd 教授邀約合寫「在地老化規劃設計策略」（由英國圖書公司出版），而有機會熟悉澳洲高齡者照顧環境發展與案例。35 年來在各種因緣際會下，陸續了解各先進國家之高齡者生活與照顧環境特性。
見證及參與推動臺灣高齡者生活與照顧環境發展
民國65-75 年期間臺灣大量設置財團法人老人安養機構提供健康高齡者居住，內政部社會司在79 年委託進行「老人安養機構規劃設計基準研究」，開
啟我在高齡學環境相關政策研究的起點。隨著社會結構的變化，臺灣由民國81 年進入高齡化社會，歷經高齡社會到如今的超高齡社會，在社會福利和衛
生醫療雙軌並行的體系下，對於高齡者的生活與照顧服務政策參與及進行環境研究，我見證了臺灣高齡者生活與照顧服務的發展歷程。
民國85 年小型老人福利機構服務人數由30（含）床以下提高至49（含）床以下，認同擴大機構服務規模而鼓勵社區設置小型失能老人養護機構，以期發揮社區照顧住宅之功能。85-86 年協助內政部社會司進行各縣市無障礙環境現況調查，在86 年《殘障福利法》修訂為《身心障礙者保護法》時，極力倡建立和民間第一個長照團體「臺灣長期照護專業協會」長期跨領域跨專業合作的起點。86-87 年協助衛生署在省立澎湖醫院、雲林醫院、苗栗醫院、臺北醫院改造舊有院舍為護理之家示範點，並在87 年由臺灣省政府衛生處邀集各省立醫院參加研習會，運用4 堂課重點說明改造護理之家之相關規劃設計議題，促進公立醫院開始推動長照環境。87-89 年協助衛生署專案審查200 床以上護理之家籌設案之建築規劃設計，以維護大規模之長照機構符合照護環境品質。
民國87-90 年參與衛生署第一、二、三屆長照諮詢委員會期間，衛生署在88 年推動失智症照護第一期三年計畫，委託進行「失智者照護環境設施現況與問題調查研究」、「失智者照護機構建築計畫與設計指引研究」，並於92年協助衛生署在三軍總醫院利用舊有院舍建立衛生醫療體系第一個失智症照
護示範專區。101 年因應衛生福利部即將成立，衛生署研擬整合性評鑑指標系統，適用於一般護理之家、精神護理之家、老人福利機構（養護型機構、長照型機構）、退輔會榮民之家，受邀負責研擬環境設施評鑑指標。102 年新營醫院北門分院護理之家火災造成重大傷亡，倡議護理之家評鑑指標比照先進國家增訂雙向水平避難逃生系統與等待救援空間，以保障無法自主逃生之失能、失智者生命安全。
立法院法制局請託撰寫提案由立法委員聯署，在民國105 年通過修正《都市計畫法》第42、46 條而規定每一鄰里社區有社會福利設施之公共設施，為
臺灣建置「社區照顧住宅」奠定法源基礎。106 年建議衛生福利部針對148 個鄉鎮缺乏社區照顧住宅者，展開「獎助布建住宿式長照機構資源計畫」，並於107-108 年擔任申請獎助計畫之建築設計方案審查委員，期待符合社區照顧住宅特性，以落實高齡者在原居社區「在地老化」之目標。106-108 年臺北市政府針對北投國小預定地轉型發展持續性照顧高齡者生活園區，多次協助衛生局審查開發及規劃可行性評估，期望臺灣能成功發展第一個持續性照顧的高齡者生活園區（CCRC）之示範區。
寫一本符合高齡者老年歷程居住安排的書
高齡者在老年由健康、亞健康、失能、失智以至臨終安寧，在不同階段所需要的生活與照顧服務將涉及醫療、護理、社工、休閒運動、物理治療、職能治療、營養、藥事、環境設計、公共衛生等不同專業領域，環境設計應能結合各服務系統而讓服務發揮最大效能，因此促使環境成為「支持性環境」是環境設計的基本原則；國際上也認同環境設計可以如同醫療介入措施而實證設計介入前和介入後之效益而成為「療癒性環境」，然而不論是支持性環境或是療癒性環境，高齡者生活與照顧之環境設計需跨領域跨專業合作是必要趨勢。
35年的高齡學環境研究歷程，在照護政策討論、機構設置標準修訂、機構評鑑指標研擬、照顧服務單位籌建計畫審查、研究計畫進行（包含國科會的基礎研究、政府部門或民間團體委託的規劃設計研究），一路走來承蒙跨領域跨專業合作的機制，讓自己能廣泛涉獵各相關領域的專業知識與資訊，而更堅信高齡者生活與照顧環境設計和一般建築設計訴求創意或美學之核心價值大不相同，如同序文一開始提及賓大指導老師（國際著名環境行為學大師）所言，弱勢族群的特性與生活行為，往往不是一般環境設計者所能自身體驗及了解。
如何避免高齡者在老年歷程因為不同階段的生活與照顧環境需求而穿梭於不同的服務體系，不斷地重新適應新環境而產生無助與挫折感，導致孤獨與憂鬱而身心狀況快速衰退。顯然提供持續性的照顧與適當的居住安排，讓高齡者可以在熟悉的情境終老一生是成功老化的關鍵因素，世界各國面對高齡社會都積極發展各類可以在地老化的終生住宅形式。一本由研究者廣泛了解各國發展狀況以及見證臺灣發展歷程，而能縱向分析高齡者各階段生活與照顧環境特性，也可以橫向討論比較各類在地老化之終生住宅發展形式，廣泛涵蓋高齡者生活與照顧環境各類議題的書，這將是一本高齡者、家屬和高齡者福利、長期照顧、環境設計、公共衛生等相關各界都可充分應用的書。
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