光電及半導體高科技產業勞工砷暴露健康危害評估研究101白M306
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內容簡介
我國高科技產業為最重要的經濟活動項目之一，其中包括半導體及光電影像顯示產業。砷化合物在光電及半導體產業製程及應用上擔任相當重要的角色，然而，砷的健康危害性大，光電及半導體產業砷作業製程及維修人員為高危險暴露群。因此，本計畫以國內光電及半導體等高科技產業勞工為研究對象，以生物偵測方式用血中砷濃度探討其作業勞工砷暴露情形，並進行健康危害評估，項目包括：健康量表、自覺症狀、血液生化指標肝腎功能、基因毒性指標－尿中8-羥基-2-去氧鳥嘌呤核苷 (8-OHdG)濃度、血液DNA甲基化 (methylation) 測定。
本研究有效樣本數為133人，包括暴露組74人，對照組59人。分析結果顯示，肝腎功能生化指標部分，暴露組的血清丙胺酸轉胺酶 (SGPT)異常比例顯著高於對照組(33.8% vs. 13.8%，p<0.05)，血清麩草酸胺基酶 (SGOT)暴露組異常比例亦約為對照組兩倍(12.2% vs. 5.2%)。血中砷測定，暴露組濃度為10.96±3.73 μg/L，對照組為11.09±2.58 μg/L，兩組無統計上顯著差異(p=0.882)，但暴露組有兩人濃度>20.00 μg/L，分別為25.70 μg/L及26.80 μg/L，而對照組濃度皆<20.00 μg/L。研究的兩種產業勞工血中砷濃度呈現顯著差異(p<0.01)，半導體產業勞工血中砷濃度(11.93±2.32 μg/L)顯著高於光電產業勞工(10.41±3.64 μg/L)，若再將暴露組分為製程人員及維修人員，則可發現維修人員血中砷濃度(11.63±4.42 μg/L)高於製程人員(10.03±2.23 μg/L)，且達統計上顯著差異(p=0.045)，尤其以光電產業更達到統計上的顯著差異(p<0.01)。複迴歸分析結果顯示，血中砷濃度與海產攝取量及工作年資有統計顯著相關(p<0.01)。 半導體產業勞工尿液8-OHdG濃度為4.44±2.98 μg/g crn，光電產業勞工則為3.39±2.57 μg/g crn，兩組達到統計上的邊緣差異(p=0.096)，而在製程及維修人員間也無顯著差異(p=0.932)。血液DNA甲基化方面，p16或p53基因，在暴露組各有61人(82.4%)、53人(71.6%)呈現甲基化情形，對照組則有49人(83.1%)、36人(61.0%)，兩組間皆無顯著差異；p16+p53 基因在暴露組有51人(68.9%)兩者皆甲基化，12人(16.2%)僅其中一種甲基化，11人(14.9%)兩者皆未甲基化，對照組有33人(55.9%)兩者皆甲基化，19人(32.2%)僅其中一種甲基化，7人(11.9%)兩者皆未甲基化，兩組間血液DNA(p16+p53基因)甲基化情形達統計上的邊緣水準(p=0.096)，而暴露組之p16及 p53 基因皆甲基化的比例高於對照組。
將血中砷濃度以四分位法進行分組發現，本研究光電及半導體產業勞工血中砷濃度與尿中8-OHdG濃度及血液DNA甲基化情形無顯著相關性，此可能與受測勞工工作年資較短有關(5.65±5.16年)。研究對象血液中DNA甲基化(即p16、p53同時有甲基化)之暴露組為68.9%，對照組為55.9%，達統計上邊緣差異(p=0.096)。整體觀之，本研究與本所先前研究比較，高科技產業砷暴露的控制已有進步。
本研究有效樣本數為133人，包括暴露組74人，對照組59人。分析結果顯示，肝腎功能生化指標部分，暴露組的血清丙胺酸轉胺酶 (SGPT)異常比例顯著高於對照組(33.8% vs. 13.8%，p<0.05)，血清麩草酸胺基酶 (SGOT)暴露組異常比例亦約為對照組兩倍(12.2% vs. 5.2%)。血中砷測定，暴露組濃度為10.96±3.73 μg/L，對照組為11.09±2.58 μg/L，兩組無統計上顯著差異(p=0.882)，但暴露組有兩人濃度>20.00 μg/L，分別為25.70 μg/L及26.80 μg/L，而對照組濃度皆<20.00 μg/L。研究的兩種產業勞工血中砷濃度呈現顯著差異(p<0.01)，半導體產業勞工血中砷濃度(11.93±2.32 μg/L)顯著高於光電產業勞工(10.41±3.64 μg/L)，若再將暴露組分為製程人員及維修人員，則可發現維修人員血中砷濃度(11.63±4.42 μg/L)高於製程人員(10.03±2.23 μg/L)，且達統計上顯著差異(p=0.045)，尤其以光電產業更達到統計上的顯著差異(p<0.01)。複迴歸分析結果顯示，血中砷濃度與海產攝取量及工作年資有統計顯著相關(p<0.01)。 半導體產業勞工尿液8-OHdG濃度為4.44±2.98 μg/g crn，光電產業勞工則為3.39±2.57 μg/g crn，兩組達到統計上的邊緣差異(p=0.096)，而在製程及維修人員間也無顯著差異(p=0.932)。血液DNA甲基化方面，p16或p53基因，在暴露組各有61人(82.4%)、53人(71.6%)呈現甲基化情形，對照組則有49人(83.1%)、36人(61.0%)，兩組間皆無顯著差異；p16+p53 基因在暴露組有51人(68.9%)兩者皆甲基化，12人(16.2%)僅其中一種甲基化，11人(14.9%)兩者皆未甲基化，對照組有33人(55.9%)兩者皆甲基化，19人(32.2%)僅其中一種甲基化，7人(11.9%)兩者皆未甲基化，兩組間血液DNA(p16+p53基因)甲基化情形達統計上的邊緣水準(p=0.096)，而暴露組之p16及 p53 基因皆甲基化的比例高於對照組。
將血中砷濃度以四分位法進行分組發現，本研究光電及半導體產業勞工血中砷濃度與尿中8-OHdG濃度及血液DNA甲基化情形無顯著相關性，此可能與受測勞工工作年資較短有關(5.65±5.16年)。研究對象血液中DNA甲基化(即p16、p53同時有甲基化)之暴露組為68.9%，對照組為55.9%，達統計上邊緣差異(p=0.096)。整體觀之，本研究與本所先前研究比較，高科技產業砷暴露的控制已有進步。
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