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半導體產業營業秘密與智慧財產權之理論與實務

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內容簡介

臺灣多年來在半導體產業的成就,有目共睹,尤其在半導體製程技術與積體電路設計上,已與世界先進技術並駕齊驅。為保護辛苦研發的技術,邇來企業常結合營業秘密權與其他智慧財產權,以保護其營業秘密。因此,營業秘密法如何發揮其保障企業的功能,實有深入討論之價值。

 
為使讀者有效率地對半導體產業營業秘密保護,能建構整體觀念,並深入瞭解具體作法,本書結合三位學有專精的作者及其多年實務經驗,以深入淺出的方式,介紹半導體產業相關的營業秘密與智慧財產權,並簡明地解釋半導體晶片之開發與製作流程;並輔以相關司法實務之判決案例搭配說明,理論與實務兼具,非常適合學習、研究或從事相關領域工作之法律人或科技人閱讀。

作者

劉傳璽

 

學歷:
美國亞歷桑那州立大學電機博士
 

現職:

國立臺灣師範大學機電工程學系教授

國際知名學術期刊(如IEEE等)之專業論文審查委員

 

經歷與獎項:

法務部司法官學院講座、司法院法官學院講座 (講授「半導體產業營業秘密介紹」)

國立臺灣師範大學副教務長兼通識中心主任、進修推廣學院副院長

銘傳大學電子系副教授兼系主任、國際學院學群主任

中央警察大學兼任副教授、國立臺北科技大學兼任副教授

聯華電子公司經理

美國紐約IBM公司研發工程師

科技部人文司複審委員

勞動部勞動力發展署複審委員

經濟部工業局專業審查委員

教育部高等教育司學術倫理審查委員

教育部國民及學前教育署課程審議委員

教育部中等學校師資培育專門課程審查委員

內政部警政署資訊室審查委員

國立臺灣師範大學領航教師、教學傑出教師

中華民國教育學術團體木鐸獎獲獎人

行政院科技部特殊優秀人才獎勵

科學園區臺積電、聯電、聯詠科技…等上市櫃科技公司與法務部調查局之授課老師或專題演講

 

著作:

國際學術論文超過100篇、中美專利超過20件、中文書籍6本

 

林洲富

 

學歷:

國立中正大學法律學研究所博士

國立中正大學法律學研究所碩士

國立臺灣師範大學工業教育學系機械組教育學士

國立臺北商業大學應用外語系商學學士

 

現職:

智慧財產法院法官

高等行政法官遴選合格

行政訴訟專業法官

民事智慧財產類型特殊專業法官

家事類型特殊專業法官

國立中正大學法律學系所兼任助理教授

國立中正大學財經法律研究所兼任助理教授

智慧財產培訓學院種籽師資

 

經歷:

臺灣高等法院法官

臺灣臺中地方法院法官、審判長

公務人員發展學院薦任科員

新竹縣湖口鄉公所薦任科員

國立白河高級商工職業學校機械科教師

 

著作:

法律通識系列專書8本、民事程序法系列專書6本、民事實體法系列專書10本、智慧財產法系列專書7本、智慧財產案例式系列專書8本、專論計96篇

 

陳建宇

 

學歷:

國立中山大學中國與亞太區域研究所博士

 

現職:

臺灣桃園地方檢察署主任檢察官

 

經歷:

律師

臺灣高雄地方檢察署檢察官

臺灣基隆地方檢察署檢察官

法務部國際及兩岸法律司調辦事檢察官

 

著作:

租稅法上之和解契約(碩士論文)

租稅法上之實質主義(博士論文)

無害違誤審查原則(月旦裁判時報第36期)

國際及海峽兩岸司法互助資產分享機制評析(檢察新論第27期)

當今反避稅規則之發展與思辨(法學叢刊65期第2卷)

 

目錄

推薦序
作者自序
 
第一章 智慧財產權總論與基本概念   1
UNIT 1.1 引言   3
UNIT 1.2 智慧財產權的意義   4
UNIT 1.3 智慧財產權的範圍與分類   5
UNIT 1.4 智慧財產權的特性   7
UNIT 1.5 各種智慧財產權法的保護關係   10
UNIT 1.6 商標法介紹   11
UNIT 1.7 專利法介紹   21
UNIT 1.8 著作權法介紹   36
UNIT 1.9 積體電路電路布局保護法介紹   49
 
第二章 營業秘密與競業禁止   57
UNIT 2.1 前言   59
UNIT 2.2 營業秘密法之立法目的   61
UNIT 2.3 營業秘密之保護理論   62
UNIT 2.4 營業秘密之性質   66
UNIT 2.5 營業秘密之客體與保護要件   72
UNIT 2.6 營業秘密權利之歸屬9   1
UNIT 2.7 司法程序之保密令制度   95
UNIT 2.8 營業秘密之侵害、救濟與責任   103
UNIT 2.9 競業禁止約款   112
 
第三章 半導體產業介紹   129
UNIT 3.1 前言   131
UNIT 3.2 半導體IC的開發與製造流程介紹   134
UNIT 3.3 電路設計與布局圖的關聯   135
UNIT 3.4 布局圖與光罩製作的關聯   138
UNIT 3.5 半導體製程簡介   141
UNIT 3.6 半導體IC的製造趨勢   156
UNIT 3.7 良率   160
UNIT 3.8 半導體IC製程的核心技術   162
 
第四章 半導體產業營業秘密案例解析   165
UNIT 4.1 案例一:友達光電 vs 連○池、王○凡   167
UNIT 4.2 案例二:群創公司 vs 陳○熹   171
UNIT 4.3 案例三:銀箭資訊、銀箭線上 vs 蔡○甫   175
UNIT 4.4 案例四:聯發科 vs 袁○文   177
UNIT 4.5 案例五:兆發科 vs 游○良   181
UNIT 4.6 案例六:勝華科 vs 甲○○   186
UNIT 4.7 案例七:台積電 vs 梁○松   190
 
附 錄 智慧財產權最新修改法條   197
附錄一 營業秘密法   199
附錄二 商標法   204
附錄三 專利法   225
附錄四 著作權法   259
附錄五 積體電路電路布局保護法   286
附錄六 勞資雙方簽訂離職後競業禁止條款參考原則   293
參考文獻   295

 

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    • 語言
    • 中文繁體
    • 裝訂
    • 紙本平裝
    • ISBN
    • 9789865224301
    • 分級
    • 普通級
    • 頁數
    • 312
    • 商品規格
    • 16開19*26cm
    • 出版地
    • 台灣
    • 適讀年齡
    • 全齡適讀
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